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长鑫上市前,高盛紧急召开电话会:中国DRAM产能有望翻倍
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文|周艾琳

编辑刘鹏

7 月 27 日登录资本市场的长鑫科技,迎来全球投资者的关注。

腾讯财经获悉,就在 7 月 24 日,高盛紧急召开 " 中国存储专家电话会 ",围绕中国 DRAM 产能扩张、产品研发进展及全球存储价格走势三大议题展开深度讨论。该专家曾任长鑫存储(CXMT)高级总监(2020 年 7 月至 2024 年 8 月),负责市场营销与销售业务;2000 年 1 月至 2018 年 3 月,他在三星电子担任总监,任职长达 18 年。

尽管长鑫并不能量产 AI 大厂紧缺的 HBM(高带宽存储),但由于头部海外厂商优先把晶圆产能倾斜给高毛利 HBM,反而导致消费级、通用 DRAM 价格暴涨,早已让长鑫赚得盆满钵满:一季度全球 DRAM 收入份额达到 8%,单季收入同比暴涨 719%。IPO 融资后,长鑫不仅将扩产 DRAM,更将向 HBM 等技术进发。

产能:2030年行业龙头有望较当前水平翻倍

专家对中国本土 DRAM 供应商的产能扩张前景持积极态度。他判断,到 2030 年,国内行业龙头年产能有望较目前翻倍以上。

产能扩张布局覆盖合肥、上海、北京三地,预计均在 2028 年前全面投产;此外,一处超大型基地将于 2028 年后开始贡献产能,进一步驱动国产 DRAM 供给持续攀升。

值得关注的是,新增 DRAM 产能不仅采购国际一线设备,也在加速引入国产半导体设备,部分工厂在光刻机以外的环节已主要采用本土设备——这为国产设备供应商打开了历史性的渗透窗口。

也正因如此,高盛核心判断是,中国 DRAM 产能扩张不可逆,国产设备替代加速是确定性主线。无论长鑫存储等厂商扩产进度如何,北方华创、中微、盛美等本土 SPE 供应商均是直接受益方——产能越扩,设备订单越多,国产化率越高,这条逻辑不依赖任何单一客户的成败。

产品:HBM3目标明确,3D DRAM 2027年有望突破

专家指出,中国本土 DRAM 龙头的产品技术在持续迭代,工艺升级带动产品性能较去年有所进步,但与三星、SK 海力士等全球一线厂商相比仍存在差距(如读写速度相对较慢)。

⦁ HBM3 及 HBM3E 量产是本土龙头 2026 年的明确目标;

⦁受制于 EUV 极紫外光刻设备的出口管制,国内厂商需借助 DUV(深紫外光刻)及其他创新工艺路线开发高端产品;

⦁专家预判,3D DRAM 有望在 2027 年实现产品研发新突破,为绕过 EUV 限制提供可行路径。

价格:三四季度涨幅趋缓,2027年仍看涨

在定价方面,专家认为国产 DRAM 价格已接近全球一线厂商水平(尽管良品率相对偏低)。

价格走势判断:

⦁三四季度由于智能手机品牌商对成本上涨的抵制,DRAM 价格涨幅将较上半年有所收窄;

⦁但中国及海外市场的 AI 需求依然强劲,支撑 2027 年存储价格持续上行;

⦁全球一线存储厂商近期不会将 HBM 产能切回传统 DRAM,AI 需求强度决定了 HBM 供给不会松动;

⦁存储厂商与客户之间长期合同占比将进一步提升,有助于价格中枢趋于稳定。

在机构看来,长鑫存储上市不只是一个 IPO 事件,更是中国半导体 " 国产替代 " 从概念走向商业落地的里程碑。本土存储及先进逻辑供应商逐步满足国内云服务商(CSP)生成式 AI 需求,对整条 " 中国为中国 " 半导体供应链构成积极利好——覆盖晶圆代工、半导体设备、材料、零部件、IP 及芯片设计各环节。

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