快科技 6 月 7 日消息，据国外媒体报道称，近日 ASML CEO 接受媒体采访时表示，中国早已研发国产光刻设备。

在这位 CEO 看来，尽管中国在赶超 ASML 的技术方面还有很长的路要走，但美国出台的打压措施只会适得其反，让中国 " 更努力取得成功 "。他还称，与其打压中国等竞争对手，不如将注意力放在创新上。

" 中国已经开始研发一些国产光刻设备，尽管中国在赶超 ASML 的技术方面还有很长的路要走，但你试图阻止的人会更加努力地取得成功。"

在这之前，中国科学院成功研发除了突破性的固态 DUV ( 深紫外 ) 激光，可发射 193nm 的相干光，与目前主流的 DUV 曝光波长一致，能将半导体工艺推进至 3nm。

中国科学院的这种技术最终获得的激光平均功率为 70mW，频率为 6kHz，线宽低于 880MHz，半峰全宽 ( FWHM ) 小于 0.11pm ( 皮米，千分之一纳米 ) ，光谱纯度与现有商用准分子激光系统相当。

基于此，甚至可用于 3nm 的工艺节点。

这种设计可以大幅降低光刻系统的复杂度、体积，减少对于稀有气体的依赖，并大大降低能耗。

相关技术已经在国际光电工程学会 ( SPIE ) 的官网上公布。这种全固态 DUV 光源技术虽然在光谱纯度上已经和商用标准相差无几，但是输出功率、频率都还低得多。

对比 ASML 的技术，频率赢达到了约 2/3，但输出功率只有 0.7％的水平，因此仍然需要继续迭代、提升才能落地。