证券之星消息，国林科技 ( 300786 ) 06 月 13 日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者：公司在半导体产品领域的纯度能到几 N 的水平？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。半导体领域产品的洁净程度最终是以金属离子和颗粒物指标进行衡量，产品本身没有纯度说法，各类气体原料纯度一般要求至少 5-8N。目前国林半导体产品可以满足先进制程级别。感谢您的关注。

投资者：公司是否有商业航天火箭推进剂废水处理技术及产品？具体是什么产品？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低。感谢您的关注。

投资者：公司有哪些作用于稀土永磁领域的产品技术？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司暂未掌握该技术。感谢您的关注。

投资者：公司是否已经有直接应用于芯片先进封装过程的产品技术？我想问的是已经应用于，而非可以应用于。具体是哪些产品技术？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体现有产品可以应用于先进封装过程中的清洗工艺环节，目前占主营业务收入比重较低。感谢您的关注。

投资者：公司目前晶体乙醛酸的产能占全世界的 30％以上对吗？为目前世界规模最大的。

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。目前公司暂未获悉国内外存在其他大规模生产高品质晶体乙醛酸的企业。感谢您的关注。

投资者：公司给商业航火箭发射公司提供火箭推进剂废水处理吗？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司产品有火箭推进剂废水处理应用业绩，但其占公司主营业务收入比重较低。感谢您的关注。

投资者：国外已经研制出利用臭氧进行核电站设备进行去污净化的技术以及臭氧对核电站废水污水处理的技术，不知道公司在这 2 个方面是否有技术产品？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。

投资者：公司给泡泡玛特的代工生产企业提供污水处理设备吗？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。

投资者：公司是否面临着之前长期合作的环保项目，马上即将大规模更换设备潮？公司是否能迎来一段产品爆单期？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司始终秉持以客户为中心的服务理念，我们将密切关注合作客户的设备使用状况，确保设备运行稳定、高效。一旦客户设备面临更新换代的需求，我们将主动作为，积极与客户对接，提供及时、专业的服务与支持，以满足客户的持续发展需求。感谢您的关注。

投资者：据研究报告，CO2 二氧化碳清洗用于精密结构清洗，通常作用于如 EUV 光刻机的掩模版，去除纳米颗粒。公司是否有研发 CO2 二氧化碳清洗设备？是否可以作用于 euv 光刻掩膜板清洗？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司正在积极研发相关设备，目前处于研发阶段，详情请关注公司定期报告。感谢您的关注。

投资者：核污染、放射性污染废水有一重要特质就是含有大量的难降解有机物。请问公司臭氧设备能够针对含有高浓度难降解有机物的放射性废水进行净化处理吗？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。

投资者：公司在净水处理领域拥有十分成熟的技术。请问公司是否有针对放射性水污染相关的净水处理技术？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。

投资者：公司按照细分领域来看，3 大业务板块都是一流水准。工业臭氧设备当之无愧的国内第一，半导体臭氧设备技术也是世界一流、国内第一，晶体乙醛酸规模世界第一、国内唯一。结果公司就始终在 20 亿的市值规模徘徊，请问到底出了什么问题？公司是否有认真审视自身？为什么这么多第一，结果公司还是一个小微股？何时才能把这些 " 第一 " 的名头，转换为实实在在的市值？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。感谢您的建议，目前公司生产经营一切正常，公司将持续聚焦主业，努力发展重要延伸产业，通过技术升级、产能优化推动业绩回升。感谢您的关注。

投资者：公司在第三代半导体器件氧化层沉积良率提升的专用臭氧工艺与设备有哪些？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。国林半导体目前所研发的为半导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机设备可满足该工艺需求。感谢您的关注。

投资者：在 2.5D/3D 封装中，臭氧用于介电层的沉积和表面处理，提升封装可靠性和性能。公司是否有针对 2.5d/3d 封装的臭氧设备？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。子公司国林半导体现有产品可以应用于先进封装过程中的清洗工艺环节。感谢您的关注。

投资者：公司是否有涉及稀土精炼废水处理？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司深耕臭氧发生器领域多年，臭氧设备产品广泛应用于市政给水、工业废水、市政污水、中水回用、海水淡化、烟气脱硝、化工氧化、空间消毒等领域。感谢您的关注。

投资者：公司公众号信息：公司生产基地占地约 10 万平方米，是全球最大的晶体乙醛酸生产基地，实现年产 2.5 万吨乙醛酸晶体和 2.27 万吨甲酸钾晶体。请问是否属实？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。目前公司暂未获悉国内外存在其他大规模生产高品质晶体乙醛酸的企业。感谢您的关注。

投资者：根据智研瞻产业研究院发布：《中国乙醛酸行业深度调研及投资前景预测报告》，截止到 2024 年，国内高品质乙醛酸晶体仍需依赖进口来满足需求，每吨超过 4.5 万元人民币。请问公司，既然国内市场对于高品质乙醛酸晶体的需求属于供不应求的情况，但是公司的产品在国内的销售情况好像并不是那么理想。是因为公司的产品目前还做不到这么高的品质，所以没办法与进口高端乙醛酸晶体相竞争吗？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。子公司新疆国林生产的晶体乙醛酸，其中乙醛酸一水合物浓度在 98% 以上，甲酸、草酸、马来酸浓度较低，且不含传统 " 乙二醛硝酸氧化法 " 工艺中的乙二醛、氯离子等有害物质。公司将积极拓展销售市场，促进营收增长，为公司的持续发展和投资者的利益带来新的动力。感谢您的关注。

投资者：高纯二氧化碳还被用于第三代半导体材料的界面处理，例如碳化硅和二氧化硅之间的界面质量会对碳化硅场效应晶体管的性能产生限制，而超临界二氧化碳处理可以降低界面态密度，提高器件性能。公司在第三代半导体材料领域是否研发了二氧化碳专用设备？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司正在积极研发相关设备，目前处于研发阶段，详情请关注公司定期报告。感谢您的关注。

投资者：在光刻技术方面，高纯二氧化碳用于浸没式光刻技术，保证液体不从侧面泄露出去，进一步提高光刻分辨率。公司是否研发了半导体级别的高纯二氧化碳发生器？技术上是否满足上述光刻理论原理？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。公司正在积极研发相关设备，目前处于研发阶段，详情请关注公司定期报告。感谢您的关注。

投资者：针对存储芯片客户需求，例如：3D NAND 堆叠层数从 128 层升级至 232 层，要求薄膜沉积氧化工艺稳定性提升；公司有这方面的技术工艺吗？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，公司目前有薄膜沉积工艺制程业绩，占主营业务收入比重较小。感谢您的关注。

投资者：臭氧与特定气体（如 CF ₄、SF ₆）反应生成活性离子，用于硅、氮化硅等材料的精准蚀刻。相比传统等离子蚀刻，臭氧蚀刻对基材损伤更小，适用于高精度图形化工艺。减少热应力，避免第三代半导体材料（如碳化硅）因高温导致的晶格缺陷。公司有蚀刻相关的半导体臭氧设备吗？能起到怎样的作用？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3 氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品。感谢您的关注。

投资者：公司有第三代半导体领域相关的产品技术吗？在氮化镓 ( GaN ) 和碳化硅 ( SiC ) 等第三代半导体器件制造中，臭氧用于高质量氧化层的沉积。

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。国林半导体基于集团多年来在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，目前所研发的为半导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机核心器件均可实现自研自制，能够为半导体、光伏、面板等行业提供系统配套设备，并可以为终端用户提供臭氧系统设备的日常维护和整机维修业务。感谢您的关注。

投资者：公司的产品技术是否已拓展至光模块生产领域？

国林科技董秘：尊敬的投资者，您好。国林半导体基于集团多年来在臭氧机理研究的技术优势和技术沉淀，目前所研发的为半导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机核心器件均可实现自研自制，能够为半导体、光伏、面板等行业提供系统配套设备，并可以为终端用户提供臭氧系统设备的日常维护和整机维修业务。感谢您的关注。

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