快科技 7 月 17 日消息，光刻机龙头 ASML 现在宣布，全球首台最强光刻机第二代 High NA EUV 已经出货。

按照官方的说法，EXE:5200 是 ASML 对现有初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的改进版本，首台买家是英特尔，一台售价近 30 亿元。

相比初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 来说，EXE:5200 拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000 为每小时 185 片以上），可以更好的为 2nm 工艺量产做支撑。

TWINSCAN EXE:5000 和 EXE:5200 均提供了 0.55 数值孔径，比前代 EUV 光刻机 0.33 数值孔径透镜的精度提高了，可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。

EUV 0.55 NA 的设计旨在从 2025 年开始实现多个未来节点，这是业内首次部署，随后将采用类似密度的内存技术。

需要注意的是，这种高精尖的光刻机，ASML 是不可能卖给中国厂商的，这不是钱的问题，而是其他因素。