快科技 8 月 29 日消息,结合 DRAM 内存、NAND 闪存优点的新一代内存—— UltraRAM 终于要来了,如今正迈向量产。
据报道,UltraRAM 的开发公司 Quinas Technology 过去一年持续与先进晶圆产品制造商 IQE 合作,致力将 UltraRAM 内存的制程推进到工业化规模。
UltraRAM 被视为结合 DRAM 与 NAND 优点的新型存储器,具备 DRAM 的高速传输、耐用度比 NAND 高 4,000 倍、超低能耗,及资料保存能力长达千年等特点。
报道指出,该设计之所以大幅进展,主要是因为采用锑化镓(gallium antimonide)与锑化铝(Aluminium antimonide)的磊晶技术获得突破,而且为全球首创,将帮助 UltraRAM 真正进入量产。
据悉,UltraRAM 仰赖磊晶技术,后续才会经过曝光与蚀刻等半导体制程,来构建内存芯片结构。
ps. 磊晶技术简单说就是在衬底(比如硅片、蓝宝石)这个 " 原子模板 " 上,让原子顺着模板的晶格纹路定向生长,最终形成一层没有 " 拼接缝 " 的高质量单晶薄膜(磊晶层)的工艺 .
IQE 首席执行官 Jutta Meier 指出:" 我们已经成功达成目标,为 UltraRAM 开发出可扩展的磊晶制程,这是迈向封装芯片工业化生产的重要里程碑。 这个项目代表了一个独特机会,将下一代复合半导体材料在英国实现 "。
Quinas 首席执行官兼共同创办人 James Ashforth-Pook 也表示,这次合作的成果是从大学研究迈向商业存储器产品之旅的转折点。
据悉,在接下来的商业化路径中,Quinas 与 IQE 计划与各大晶圆厂与合作伙伴探讨试产的可能性。
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