快科技 11 月 27 日消息，作为世界最先进的半导体芯片代工厂，台积电的技术机密很容易成为别人的目标，最近的一个例子是前高管罗唯仁跳槽 Intel 引发的，前两个月的例子则牵涉日本半导体巨头。

这家公司就是日本 KEL 威力科创，该公司的一名陈姓员工原本在台积电工作，离职后加入 TEL，但仍通过之前的同事关系获取了台积电大量技术信息，就有 2nm 工艺的重要信息，最终触发台积电监控，随后被抓，8 月份宣判。

事发之后，威力科创已经开除了这名员工，并且日前再次发表公告称经该公司内部调查，截至目前未发现相关机密信息外泄至第三方，亦未发现有组织性地指示该名前员工获取不当信息的行为。

之后传闻 TEL 高管、社长等高层两次去台积电负荆请罪，然而这件事多少还是影响了他们与台积电的关系，日前台积公布了优秀供应商名单，TEL 公司就没有位列其中。

台积电在日前的供应链管理论坛上公布的这份名单，主要是表彰合作伙伴在推动 2nm 等先进制程与封装技术的研发、优化及产能扩建工作中的重要作用，并持续助力台积电拓展全球生产布局。

这些企业名单中，步伐 ASML、应用材料、KLA、Lam 科林等全球半导体巨头，TEL 作为三大蚀刻机供应商之一，之前也不是没中选过，但是这次落选显然不是他们的产品不行，这次的窃密案多少影响了他们的评价。

不过台积电也不太可能完全取消与 KEL 的合作，能够生产用于 2nm 及未来工艺蚀刻机的厂商并不多，放弃 TEL 意味着只能选 KLA、LAM 两家美国公司，显然这也不利于台积电与厂商博弈。