钛媒体 App 4 月 8 日消息,华海清科公告称,公司近日第 1,000 台 CMP 装备正式出机并发往国内集成电路龙头企业。目前,公司 CMP 装备已批量进入国内先进制程大生产线,部分核心技术指标超越国际先进水平。CMP 作为实现纳米级表面平整度控制的核心工艺,在先进逻辑、先进存储及先进封装等领域的应用场景与工艺需求不断拓展。(公司公告)

钛媒体 App 4 月 8 日消息,华海清科公告称,公司近日第 1,000 台 CMP 装备正式出机并发往国内集成电路龙头企业。目前,公司 CMP 装备已批量进入国内先进制程大生产线,部分核心技术指标超越国际先进水平。CMP 作为实现纳米级表面平整度控制的核心工艺,在先进逻辑、先进存储及先进封装等领域的应用场景与工艺需求不断拓展。(公司公告)
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