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三星下个月带来第9代290层V-NAND闪存,明年会有第10代430层产品
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作为全球最大的 NAND 闪存供应商,三星对其 V-NAND 技术的开发制定了宏伟的计划。去年三星曾表示,2024 年初将开始生产第 9 代 V-NAND 技术的产品,继续沿用双堆栈架构,拥有业界最高的层数。

据相关媒体报道,三星计划下个月发布第 9 代 V-NAND 技术,层数将达到 290 层,高于之前所传的 280 层,以替代 2022 年发布的 236 层第 8 代 V-NAND 技术。目前存储行业似乎已进入 " 层层堆叠 " 的激烈竞争当中,而三星看起来领先于 SK 海力士和铠侠等竞争对手。此外,三星还公布了第 10 代 V-NAND 技术上,层数将达到 430 层,计划会在明年到来,或许会引入三堆栈架构。

传闻首款采用第 9 代 V-NAND 技术的是 1Tb(128GB)QLC 3D NAND 闪存芯片,存储密度达到了 28.5Gb mm2,将高于目前业界最高的长江存储产品,后者的存储密度为 20.62Gb mm2。同时 I/O 速率达到了 3.2 Gbps,相比第 8 代 V-NAND 技术的 2.4 Gbps 也要快得多。如果条件允许,三星可能会提供容量为 16TB 的 M.2 SSD,或者是单面 8TB 的产品。

除了提高存储密度外,新款 3D NAND 闪存芯片的性能也将得到提升,其中包括了最大化 3D NAND 闪存输入 / 输出(I/O)速度的新结构。预计三星将带来 990 Pro 系列的继任者,采用 PCIe 5.0 接口的新一代旗舰 SSD。

2022 年三星在 "Samsung Tech Day 2022" 上提出了长期愿景:到 2030 年会将层数提高至 1000 层。不过有着相同目标的 NAND 闪存制造商不止三星一家,此前有报道称,铠侠首席技术官 Hidefumi Miyajima 在近期的一次会议上表示,计划到 2031 年开始批量生产超过 1000 层的 3D   NAND 闪存芯片。

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