IT 之家 3 月 25 日消息，据国际光电工程学会（SPIE）消息，中国科学院（CAS）研究人员成功研发突破性的固态深紫外（DUV）激光，能发射 193 nm 的相干光（Coherent Light），该波长目前被用于半导体曝光技术。

论文介绍称，深紫外相干光，尤其是 193 nm 波长的光，已成为半导体光刻不可或缺的部分。研究人员提出了一种紧凑型固态纳秒脉冲激光系统，能够在 6 kHz 的重复频率下产生 193 nm 相干光。

将自制 Yb:YAG 晶体放大器中的 1030 nm 激光的一部分通过四次谐波产生，生成 258 nm 激光（1.2 W），其余部分用于泵浦一个光学参量放大器，产生 1553 nm 激光（700 mW）。这些光束在级联   LiB3O5   晶体中的频率混合产生平均功率为 70 mW、线宽小于 880 兆赫的 193 nm 激光。通过在频率混合前将螺旋相位板引入 1553 nm 光束，我们生成了一个携带轨道角动量的涡旋光束。

IT 之家从论文获悉，这是首次从固态激光中产生 193 nm 涡旋光束的演示。这种光束对于种子混合 ArF 准分子激光器非常有价值，并在晶圆加工和缺陷检测中具有潜在的应用。

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