快科技 3 月 30 日消息，近日，黄仁勋在 GTC 2025 大会访谈中表示，依靠环绕栅极（GAA）晶体管的下一代制程技术，将为新一代 GPU 带来 20% 的性能提升。

如无意外，黄仁勋所说新一代 GPU，应该是指预计在 2028 年推出的 Feynman。

报道称，黄仁勋在问答中似乎淡化了制程节点变化的重要性，强调摩尔定律的放缓，代表着未来全新的制程技术在密度、功率和或能效方面的改进有限，预计只会带来 20% 左右的改进。

黄仁勋还指出，虽然由领先工艺技术实现的改进受到欢迎，但它们不再具有变革性。

" 我们会接受它，" 他说，但表示其他因素更重要。随着 AI 系统的扩展，管理大量 GPU 的效率变得比每 GPU 的原始性能更重要。

通常来说，NVIDIA 不会率先采用台积电最新的工艺制程，而会选择次新的成熟制程技术。

比如，NVIDIA 目前正在使用台积电的 4nm 制程技术来生产针对消费等级以及数据中心的 Ada Lovelace、Hopper 和 Blackwell 等构架 GPU，而台积电 4nm 节点制程本质上是 5nm 节点制程的改良版。

而 NVIDIA 的下一代 GPU 构架 RuBin，计划是采用台积电 3nm 节点制程，可能是 N3P 或者是针对 NVIDIA 的订制化版本。

因此，NVIDIA 首款采用 GAA 制程技术的产品，则应该是在 2028 年推出的 Feynman 构架上。

当然黄仁勋并没有提及会采用哪家的 GAA 制程技术。 所以，理论上台积电 N2 制程技术，还是三星的类似技术，甚至是 Intel 18A 都有可能。