2023 年末,三星与 ASML签署了一项价值 1 万亿韩元的协议,双方将在韩国京畿道东滩投资建设半导体芯片研究设施,并在那里共同努力改进 EUV 光刻制造技术。与此同时,三星还获得了 High-NA EUV 光刻设备技术的优先权。
据 TrendForce报道,ASML 现在似乎放弃了与三星的合作建设半导体芯片研究设施,开始将早期购买的土地出售。据了解,ASML 在去年购入了 6 块土地,总面积达到了约 19000 平方米,其中 2 块已经出售,另外 2 块在挂牌出售。至于具体什么原因,或者双方计划有什么改变,暂时还不清楚。
此举引发了外界对 ASML 与三星合作伙伴关系的质疑,不过有消息称,双方正在寻求更有效的替代方案,比如寻找新地点另外建造研究设施,可能位于华城郊外,甚至可能选择在三星的园区内。由于韩国是 ASML 的关键市场质疑,随着三星推进先进制程节点的开发,双方应该会继续保持密切合作。根据 ASML 的报告,韩国成为了其 2025 年第一季度最大的市场,占总收入的 40%,高于 2024 年第四季度的 25%。
三星已经在上月初,在其华城园区引入了首台 ASML 制造的 High-NA EUV 光刻机,型号为 "TWINSCAN EXE:5000",主要用于技术研发工作,预计 2025 年年中开始使用。三星也成为了英特尔(2023 年末)和台积电(2024 年第三季度)之后,第三家安装 High-NA EUV 光刻机的半导体制造商。
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