快科技 8 月 5 日消息，据媒体报道，佳能（日本）宇都宫市的全新扩建后的光刻机工厂将于 9 月正式投入运营。

这是自 2004 年该光刻机工厂落成后，时隔 21 年的首次扩建。旨在增产光刻设备，借助人工智能（AI）产业的迅猛发展，抢占由全球龙头企业阿斯麦主导的光刻设备市场。

面对全球 AI 产业催生的半导体需求激增，佳能斥资 500 亿日元（约合 23.94 亿人民币）打造的超 6.7 万平方米新厂区。

新工厂的核心突破在于双轨技术布局：在延续传统 UV 光刻设备生产的同时，引入革命性的纳米压印光刻系统。通过将电路图案直接压印至晶圆，大幅简化制造流程。

相较于传统光刻工艺，其在生产成本与能耗控制方面具备显著优势，为佳能挑战阿斯麦（ASML）的统治地位提供关键技术支点。

产能规划显示，新工厂预计 2027 年实现满产，届时联合宇都宫、阿见两大现有基地，佳能光刻机年产量将突破 300 台大关——较 2024 年 233 台的出货量跃升近 30%。

尽管目前佳能以 30% 的全球市场份额位居行业第二，但在决定高端芯片性能的极紫外光（EUV）领域，仍与占据绝对主导的阿斯麦存在代际差距。

据世界半导体贸易统计组织预测，2026 年全球半导体市场规模将达 7607 亿美元，年增长率 8.5%，更有机构预判 2030 年市场将突破万亿美元大关。当阿斯麦凭借 EUV 技术收割高端芯片制造红利之际，佳能正试图通过纳米压印的差异化路径，在 AI 算力基础设施的黄金赛道上开辟新战场。