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iPhone 18 Pro/20周年iPhone渲染图出炉:挖孔渐渐消失
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快科技 11 月 15 日消息,根据博主爆料的消息,明年的 iPhone 18 Pro 系列将首次缩小灵动岛面积,2027 年亮相的 20 周年 iPhone 将会把 Face ID 和前摄全部置于屏幕下方,实现真面屏形态。

有博主基于爆料信息绘制了 iPhone 18 Pro 和 20 周年 iPhone 的渲染图,在这两代 iPhone 上,正面的挖孔区域渐渐消失。

目前安卓阵营已经推出了屏下前摄机型,代表品牌是努比亚,最新的红魔 11 Pro 系列以及努比亚 Z80 Ultra 都是真全面屏旗舰。以努比亚 Z80 Ultra 为例,该机采用纳米级高透材料、独立像素驱动技术,显著提升屏下摄像透光率,最终实现屏下镜头全场景完美隐藏效果。

相比努比亚,苹果要想要实现真全面屏设计,不仅要做屏下前摄,还要将 Face ID 组件置于屏幕下方,既不影响显示效果又兼顾生物识别。

在此之前,有关苹果屏下 Face ID 的多项专利被曝光,苹果的新专利通过创新设计,移除部分子像素,使红外光能够更顺畅地穿过屏幕盖板,从而实现高效的屏下人脸识别。

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