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台积电技术大佬罗唯仁携2nm机密投奔Intel:帮助不大 影响不小
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快科技 11 月 20 日消息,台积电 21 年老将罗唯仁在退休之后跳槽老东家 Intel 的消息引发关注,而且被曝出在退休前就获得了大量先进工艺的资料。

据报道,罗唯仁在退休前曾利用其高层主管的职权,要求下属进行简报,并影印了大量涉及 2 纳米、A16、A14 纳米等先进制造技术的机密资料。

罗唯仁在台积电工作了 21 年,从 2004 到今年 7 月份退休,虽然已经 75 岁高龄,但他的经验和现在获得的资料都很重要,因此很多人认为这次跳槽会是台积电的重大损失,会让美国公司获得台积电的机密,而这是台积电最大的竞争优势。

不过美国 Tom ’ s Hardware 网站给出的判断相反,认为就算罗唯仁去了台积电也不会给 Intel 带来多大帮助,因为两家公司的技术并不相同,Intel 已经量产了 18A 工艺,跟台积电的 2nm 有诸多技术差异。

不论是图案成形还是背部供电,两家公司在技术选择上都有很多不同,不可能直接拿来套用,因此罗唯仁在台积电积累的技术对 Intel 几乎没有什么价值。

罗唯仁去 Intel 真正的改变可能是给 Intel 带来台积电的管理文化,从研发到生产,这方面台积电都有成功的经验可学,这方面对提升公司竞争力也很重要。

虽然技术上的帮助不大,但是罗唯仁这样跳槽 Intel 的影响也不小,此事可能会导致半导体行业对挖角行为保持警惕,不仅会影响单一公司,还可能引发全行业变化,未来会制定更严格的合规及人才流动政策。

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