快科技 12 月 7 日消息，前不久日本断供光刻胶的消息引发关注，虽然日本方面否认了传闻，但在光刻胶领域，日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。

尤其是在先进的 EUV 光刻胶领域，目前主要掌握在日本 JSR、信越化学、东京应化 TOK 等公司手中，前几年日本与韩国爆发争端之后，日本就停止过对韩出口光刻胶等三种关键材料。

这几年中韩国也一直在加大对半导体核心技术与材料的国产化，之前有说法称韩国已经解决了 EUV 光刻胶，实际上并不是，所谓的解决只是日本公司为了绕过政策限制，对韩出口从本土改为海外公司供货而已，韩国三星、SK 海力士等公司依然依赖日本公司 EUV 光刻胶供应。

相比三星，SK 海力士主要是生产存储芯片，此前对 EUV 光刻胶需求不算高，但是随着工艺的提升，内存芯片也要大量使用 EUV 光刻工艺，为此他们也联合韩国的东进世美肯公司合作开发 EUV 光刻胶。

双方合作的产品目标不仅是取代日本公司的 EUV 光刻胶，而且还要在性能上超越日本产品，特别是光敏性，以便提高生产效率。

光刻胶的光敏性越强，所需的曝光时间就会越短，因此生产效率会更高，即便是同样的 EUV 光刻机，先进 EUV 光刻胶生产能力也是不同的。

随着内存芯片不断逼近 10nm 甚至在 10nm 以下，所需的 EUV 光刻层数也在不断增加，第七代 1d 工艺已经需要 7 层 EUV 了，未来只会继续增加。