快科技 12 月 22 日消息，长期以来，EUV 光刻技术一直被主要用于打造最强大的逻辑与存储芯片。

不过比利时微电子研究中心（IMEC）近日首次成功利用 ASML 的 EUV 光刻设备，在 300 毫米晶圆上实现了固态纳米孔的晶圆级制造。

这项进展被 ASML 公关负责人誉为 " 意想不到且出色的生物医学应用 "。

所谓纳米孔，是直径仅有几纳米的微小孔洞，其精细程度约为人类头发丝的万分之一，在生物传感领域，纳米孔的作用如同 " 分子检查站 "。

当离子电流流过孔洞时，通过其中的分子（如病毒、蛋白质或 DNA）会对电流产生独特的信号，科学家可以根据这些独特的电信号，高灵敏度地辨别分子的尺寸、结构和电荷。

虽然纳米孔在基因组学和蛋白质组学中具有巨大潜力，但过往受限于制造变异性大和集成困难，始终无法实现大规模生产。

imec 的突破在于利用 EUV 技术确保了孔径的高度一致性，目前孔径已精确缩小至约 10 纳米，未来更有望通过工艺改进突破 5 纳米。

更重要的是，这种方法与 CMOS 兼容，意味着生物传感器可以像生产芯片一样在 300 毫米晶圆上大规模制造。

imec 研发项目经理 Ashesh Ray Chaudhuri 表示，将原本用于芯片制造的 EUV 基础设施应用于生命科学，已经为高通量生物传感器阵列打开了大门。