快科技 1 月 4 日消息，下周的 CES 展会上 Intel 预计会正式推出 Panther Lake 处理器，这是 18A 工艺量产的首款消费级处理器。

18A 工艺是近年来 Intel 最关键的一次升级，没有之一，用上 RibbonFET 晶体管及 PowerVia 背部供电技术，可以进一步降低芯片功耗，提高频率。

18A 工艺已经在 Intel 位于亚利桑那州的 Fab 52 工厂量产，达产时月产能将达到 4 万片晶圆，良率表现据说也达到了预期。

Intel 10 月份组织了一次工厂行，开放了 Fab 52 工厂参观，还展示了先进的 EUV 光刻机，但是 18A 工艺还有很多秘密没有公布，很可能用上了下一代的 High NA EUV 光刻机作为杀手锏。

High NA 型是当前 EUV 光刻机的下一代产品，主要是 NA 指标从 0.33 提升到了 0.55，可以进一步提升光刻分辨率，但是成本提升也是巨大的，一台售价要 4 亿美元，约合 28 亿元，比当前 EUV 光刻机 1.5-2 亿美元的价格翻倍还多。

Intel 在 EUV 光刻机商落后了，因此把 High NA EUV 视为工艺翻身的机会，前几年就官宣成为 High NA EUV 的首家客户，从 Intel 这两年公布的信息来判断，他们至少买了 3 台 High NA EUV 光刻机了。

不过也有说法是 Intel 包圆了 ASML 这几年来的 High NA EUV 产能，大约有 6-7 台，可以说非常壕了，毕竟台积电、三星并不打算第一时间就抢购 High NA EUV 光刻机。

Intel 如此大手笔购买 High NA EUV 是做什么用的？此前他们提到会在下一代的 14A 工艺上应用这种光刻技术，但是 14A 还没建厂呢，目前最多是在试验开发中。

Intel 自己披露的消息称，他们每个季度使用 High NA EUV 生产超过 3 万片晶圆，也就是每个月 1 万片晶圆，要知道 1 万的产能对实际量产的工厂来说都不小了，现在 Intel 在技术研发上就如此大量生产，实在是太烧钱太奢侈了。

这不太合理，那 High NA EUV 光刻机可能还有一种用途，就是现在的 18A 工艺上已经秘密使用了这种光刻机，但 Intel 不打算宣传也不打算公布。

猜测 Intel 的想法是把 High NA EUV 作为 18A 工艺秘而不宣的优势，打竞争对手一个措手不及，延长 Intel 在 High NA EUV 技术上的优势。