《科创板日报》1 月 23 日讯（记者 黄修眉） 中微公司今日（1 月 23 日）晚间公告称，公司预计 2025 年度营收约为 123.85 亿元，较 2024 年增加约 33.19 亿元，同比增长约 36.62%；预计 2025 年度实现归母净利润为 20.80 亿元至 21.80 亿元，同比增长约 28.74% 至 34.93%。

其中，该公司 2025 年刻蚀设备销售约 98.32 亿元，同比增长约 35.12%；LPCVD 和 ALD 等半导体薄膜设备收入 5.06 亿元，同比增长约 224.23%。

由此计算，中微公司预计 2025 年第四单季度营收为 43.22 亿元，环比增长 39.3%；归母净利润为 8.69 亿元 -9.69 亿元，环比增长 71%-91%，以最低值 8.69 亿元计算，创其单季度历史新高。其 2025 年第四季度的净利润分析师一致预测是 9.93 亿元。

2025 年全年，该公司研发投入约 37.36 亿元，较 2024 年增长 12.83 亿元，同比增长 52.32%，研发投入占公司营收比例约为 30.16%。

针对业绩增长的原因，中微公司在公告中表示，公司等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

具体到已有产品市场上，中微公司表示，CCP 方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，能够全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比需求；ICP 方面，适用于下一代逻辑和存储客户用 ICP 刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展，加工的精度和重复性已达到单原子水平。到 2025 年底，刻蚀设备反应台全球累计出货超过 6800 台。

值得一提的是，中微公司近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单。

其中，LPCVD 设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进；公司 EPI 设备已顺利进入客户端量产验证阶段，该种设备同时也付运至先进制程客户进行验证，部分先进工艺已进入量产验证阶段；公司几款 MOCVD 新产品进入客户端验证阶段；新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光 LED 应用的设备已付运至国内领先客户开展验证；

其新一代高选择比预清洁腔体满足先进工艺的需求，已在客户端进行量产验证；常压外延设备现已完成开发，进入工艺验证阶段；在泛半导体设备领域，公司正在开发更多化合物半导体外延设备，已陆续付运至客户端进行验证。

此外，中微公司在南昌约 14 万平方米的生产和研发基地、上海临港的约 18 万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了公司销售快速增长。