快科技 2 月 25 日消息，荷兰 ASML 是目前唯一能量产 EUV 光刻机的公司，当前的 EUV 依然存在很多问题，特别是光源功率不足，严重限制了产能提升。

ASML 日前宣布了一项重要进展，那就是将 EUV 光源功率翻倍提升到了 1000W，实现了革命性的提升，详细的介绍可以参考之前的报道：ASML 全新 EUV 光刻机重大飞跃！1000W 功率 +50％、产能 +50％。

简单总结一下就是：当前 EUV 光刻机功率在 600W 左右，导致产能只有 220 片晶圆 / 小时，提升到 1000W 功率之后，产能将提升到 330 片晶圆 / 小时。

实现这一突破的原理在于 ASML 用 1um 的预脉冲 PP 取代了之前 10um 的预脉冲，同时锡滴喷射频率从之前每秒 5 万个提升到了 10 万个，因此可以产生更多的 EUV 光。

这一技术不仅可以做到 1000W 功率，未来还可以进一步提升到 1500W 甚至 2000W 级别，意味着 EUV 光刻机未来的效率和产能还会继续提升，将极大地降低 EUV 芯片的生产成本。

不过目前这个技术还没有量产，至少还要几年时间。

总之，ASML 这次公布的 EUV 技术意味着他们在这方面的优势再次加强了，其他竞争者想挑战他们的难度大增。

此外，值得注意的是这次技术的问世背后，研究团队中有除了欧美的人员之外，还有多名中国研究员，论文的多个作者中有 Qiushi Zhu、Yue Ma 及 Haining Wang，而 Haining Wang 不仅是排名第一的作者，也是这篇论文的演讲者。

从 Haining Wang 的履历来看，他 20 多年前获得了国家优秀自费留学生奖，2016 年在美国康奈尔大学获得了博士学位，2016 年加入了 ASML 公司，在 EUV 研究部门中担任了科学家及架构师，专注于研究 LPP 等离子体技术路线的结果和基础物理。