证券之星消息，根据天眼查 APP 数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为 " 一种选择性蚀刻氮化硅及氧化硅和氮化钛的蚀刻液 "，专利申请号为 CN202411696140.7，授权日为 2026 年 5 月 12 日。

专利摘要：本发明涉及一种选择性蚀刻氮化硅和氧化硅、氮化钛的蚀刻液，该蚀刻液包括磷酸、表面活性剂、蚀刻抑制剂和超纯水。本发明所述的蚀刻液和处理条件，对于氮化硅和氧化硅、氮化钛的蚀刻具有较高的蚀刻选择性和稳定的蚀刻速率。表面活性剂能够改善蚀刻液中溶剂的溶解性，降低溶液中固液相界面的张力，促进相间物质的传递速率，从而提高氮化硅和氧化硅的选择比，最终是选择比＞100；蚀刻抑制剂能够与金属以配位键的形式在氮化钛表面形成一层薄膜，大幅降低了蚀刻液对氮化钛的蚀刻速率，使得蚀刻选择比>20。本发明的蚀刻液可以在较高的氮化硅蚀刻速率的条件下，抑制氮化钛的蚀刻速率，可以确保满足氮化硅和氧化硅、氮化钛高选择比的要求。

今年以来兴福电子新获得专利授权 11 个，较去年同期减少了 21.43%。结合公司 2025 年年报财务数据，2025 年公司在研发方面投入了 9291.33 万元，同比增 20.79%。

通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了 10 家企业，参与招投标项目 232 次；财产线索方面有商标信息 7 条，专利信息 532 条，著作权信息 6 条；此外企业还拥有行政许可 287 个。

数据来源：天眼查 APP

以上内容为证券之星据公开信息整理，由 AI 算法生成（网信算备 310104345710301240019 号），不构成投资建议。