快科技 6 月 24 日消息，先进工艺愈发离不开 EUV 光刻机，然而全球唯一能量产 EUV 光刻机的只有荷兰 ASML 公司，美国自己也没有，所以美国官方也大力投资国产 EUV 开发。

在这个领域美国官方已经投资了多家初创企业，其中有一家名为 xLight，CEO 是 Intel 公司前 CEO 基辛格，公司计划开发全新的自由电子激光器 FEL 为光源的 EUV 光刻系统，原型计划在 2028 年问世。

这家公司目前正在洽谈 3.5 亿美元的融资，领投的机构可能是 Boardman Bay Capital Management 与 Bain Capital，该公司还在游说 ASML、台积电、Intel 及美光等公司参与投资。

在此之前，xLight 公司已经获得了 2 亿美元的投资，其中美国政府根据芯片补贴法案就给了 1.5 亿美元，已经变成主要股东了。

光源是 EUV 光刻机的核心技术，与 ASML 公司走 LPP 等离子体激光技术不同，xLight 公司的 FEL 自由电子激光器技术更先进，光源功率可达 1000W，而 ASML 公司的 EUV 光刻机光源也就 250W，这方面 FEL 光源是 ASML 的 4 倍强。

光源功率越强大，制造芯片的效率就越高，产能也会越大，ASML 公司也计划提升 EUV 光刻机的光源，之前公布过 600W 功率的，未来目标也是 1000W 功率。

不过 xLight 公司的 PPT 目标更远大，除了 1000W 功率，2000W 功率的光源也是他们要做的，只不过需要的时间更长。