手机中国 07-03
三星电子、SK海力士计划大幅提前晶圆厂竣工时间
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【CNMO 科技消息】7 月 3 日,据韩媒报道,三星电子、SK 海力士计划大幅提前平泽工厂与龙仁半导体产业集群的竣工时间。外界由此预测,各大半导体设备厂商的订单规模也将在短期内快速扩张。

据 CNMO 科技了解,三星电子与 SK 海力士近期与政府达成协议,调整设备投资时间表:一边推进西南区域全新半导体集群建设,一边将当前在建的京畿道平泽、龙仁工厂提前竣工。政府要求两家企业大幅缩短京畿道扩产项目周期,力争 5 年内将高端 DRAM 产能提升至现有两倍。

SK 海力士原计划 2045 年完工的龙仁半导体集群工期直接提前 12 年,计划 2033 年前完成第四座晶圆厂建设。后续分阶段投产配套生产设备,龙仁集群整体总投资额将达 600 万亿韩元。

三星电子同样计划提前落地平泽半导体产线。此前行业预估,今年下半年平泽 5 厂(P5)一期主体工程动工,明年下半年正式投产;平泽 6 厂(P5 Fab2)才刚启动基础施工。

但三星电子调整建设方案,不再分批次先后修建 P5 与 P5 Fab2,改为同步施工压缩工期。同时,原定于 2047 年竣工的龙仁国家产业园区,建设周期缩短 7 年,计划 2040 年前全部完工。

此次提前落地的投资重点聚焦高带宽内存(HBM)所需高端 DRAM 产线搭建,因此相关设备企业将率先迎来订单增长。三星电子计划在 P5 与 P5 Fab2 全部打造适配 HBM4、HBM4E 的 1c 制程 DRAM 专属产线,同时可切换至明年年末量产的 10 纳米级第七代(1d)DRAM 工艺,1d DRAM 将用于第九代 HBM5E 芯片制造。

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