快科技 7 月 17 日消息，英特尔已率先将 High-NA EUV 技术应用于量产（18A Panther Lake），而三星虽然已安装 2 台 High-NA EUV 设备，却迟迟没有跟进量产。

High-NA EUV 是新一代光刻机能更精确聚焦光线，一次画出更细密电路，每台成本超过 5000 亿韩元（约 22.85 亿元人民币）。

三星去年已在华城园区安装首台设备，今年上半年又增设一台，总投资超 1 万亿韩元（约 45.7 亿元人民币），但这些设备至今闲置，商业化部署仍处于暂停状态。

业内人士认为，三星这么做更多是出于财务考量而非技术瓶颈，三星晶圆代工业务自 2022 年以来持续亏损，部分市场观察人士预计最快今年第四季度实现盈利。

此时将 High-NA EUV 投入量产意味着固定运营成本大幅增加，三星不愿在即将扭亏为盈的节点上承担更多资本支出。

三星 2 纳米工艺良率已提升至 55% 左右，接近稳定量产所需的 60% 水平，技术上并非不能用新设备。

半导体设备行业人士表示，三星目前的良率已经可以部署新设备，但在获得更多大型客户订单、确保盈利能力更稳固之前，仍将维持保守的资本支出策略。

你怎么看？