快科技 8 月 3 日消息，一家美国初创公司获得了美国能源部 "Genesis Mission"（创世纪任务）奖项，这是美国能源部为推动 AI 在科学与工程领域应用而设立的项目，这家公司打算用 X 射线光刻技术，挑战 ASML（阿斯麦）在高端光刻机上的垄断地位。

先说说 ASML 有多牛，极紫外（EUV）光刻机（给芯片 " 印电路 " 的核心设备，全世界只有这家荷兰公司能造最先进型号）一台就要 4 亿美元（约 27 亿元人民币），零件超过 10 万个，每年研发投入高达 50 亿美元。

这家总部位于旧金山、叫 Inversion Semiconductor 的小公司，想的却是另一条路，用高功率激光加热一种气体（可能是氢或氦），产生超高温等离子体，让电子在磁结构里高速摆动发光。

这种光波长更短、更接近 X 射线，每秒能产生 5 亿次脉冲，而 ASML 是每秒轰击锡滴 5 万次，相差 1 万倍。

公司创始人打了个比方，ASML 的光像灯泡一样向四面八方乱射，要靠一堆昂贵镜片收集，而他们的光像激光一样又亮又直，省事多了。

靠着这套设想，公司已拿到 Y Combinator 和 Entrepreneur First 两家机构的 50 万美元（约 338 万元人民币）种子前投资，又获得 75 万美元（约 507 万元人民币）政府奖项资金（与劳伦斯伯克利国家实验室共同使用）。

不过这场挑战还很遥远，公司自己承认，距离造出测试光刻机还要好几年，他们用的激光器虽已从几个足球场大缩小到约 30 米长、5 到 10 米宽，仍是庞然大物。

但若真能走通，打破 ASML 一家独大，芯片制造速度提升 15 倍，意味着芯片供应更充裕、价格可能更低，那才是真正的颠覆。