快科技 8 月 10 日消息，巴黎第一大学教授埃马纽埃尔 · 孔博近日发表文章，他表示，中国正在光刻机领域逐步缩小与全球领先水平的差距，若美国继续对华制裁，欧美将是这场竞争的最大输家。

孔博指出，限制一个国家获取尖端技术，可能产生与初衷相反的效果。欧洲企业会逐步流失中国市场份额，美国出口管制短期放慢中国技术发展，同时倒逼中国自主研发高端设备、完善产业链。

孔博以历史作对比。冷战时期，苏联因巴黎统筹委员会禁令无法采购西方先进计算机，电子工业长期落后，中国却走出不同路径。

中国企业通过采购 DUV 光刻机用多重图案化技术制造 7nm 芯片，只是代价是良率低、成本高，但至少能跑通。随着美国对 DUV 实施更严厉限制，中国芯片产业只剩下自研光刻机一条路可走。

但自研之路也面临着设备卖给谁的问题。以尼康为例，曾投入上千亿日元研发 EUV 光刻机，但 ASML 早已用股权绑定三星、英特尔、台积电，2018 年就交付量产设备，尼康连适用的原型机都没造出来。就算尼康最终造出机器，大客户也早已被 ASML 套牢。

中国企业研发光刻机同样面对这一难关，但美国的制裁将许多进口设备挡在中国市场之外，国产自主设备获得了天然的市场空间。

孔博认为，短期看，国产设备尚难撼动 ASML，仅 2025 年 ASML 就交付 131 台 DUV 光刻机，其设备生态也已十分成熟。长期来看，若欧美持续封锁，中国企业将用自主设备保障产业链稳定，海外厂商也会失去大量中国客户。