快科技 10 月 21 日消息，蔡司韩国新任法人长近日在首尔接受采访，谈到三星电子、SK 海力士在韩国推进的大规模晶圆厂投资时表示，公司已经完成相应准备。

蔡司 1846 年成立于德国，做的是半导体、医疗、工业测量领域的光学部件。

它在芯片产业链里的位置很难被替代，ASML 是全球唯一能量产极紫外光刻机的厂商，而光刻机里那套高精度镜头系统由蔡司独家供应。

换句话说，没有蔡司的镜头，ASML 的光刻机根本造不出来。

采访的重点落在高数值孔径 EUV（High-NA EUV）上，极紫外光刻用的是 13.5 纳米波长的光源，约为上一代氟化氩光源的十三分之一，这个波长决定了它能画出多细的线。

高数值孔径的意思是把镜头的数值孔径从 0.33 提到 0.55，数值孔径衡量的是镜头聚光的能力，提上去之后分辨率跟着提升，业内预计这套技术两到三年内会进入量产。

蔡司在这件事上的时间线拉得很长，高数值孔径 EUV 使用的光掩模（把电路图形转印到晶圆上的母版）对量测精度要求极高，蔡司从六年前就开始开发对应的量测方案，当时不少同行还在观望这项技术能不能成。

目前其 AIMS 系列光掩模检测设备已经更新到 AIMS EUV 3.0。

供应链也在同步扩，今年 7 月蔡司宣布扩建位于德国奥伯科亨的半导体制造技术工厂，新增约 2.5 万平方米空间，用来生产高数值孔径 EUV 所需的高精度光学系统和量测设备。

这位负责人的说法是，芯片需求涨起来之后再准备供应链就已经晚了，必须提前看准方向。

韩国本地的动作也已经落地，今年 7 月在龙仁开设的半导体创新中心已经投用，目前装有两台设备，年内还会再进一批。

客户可以直接到现场和蔡司一起调工艺，按他的说法，这是第一次让客户参与到设备改进里来，至于是否在韩国设研发中心，他的回应是现在还不是能决定的阶段，但属于可能性很大的选项。