【太平洋科技快讯】10 月 28 日消息，据媒体报道，为纪念 iPhone 问世 20 周年，苹果预计将在 2027 年跳过 "iPhone 19" 的命名，直接推出名为 "iPhone 20" 的里程碑式产品。这一策略与 2017 年跳过 iPhone 9、直接推出 iPhone X 的做法一脉相承。尽管距离发布尚有两年，但关于这款纪念机型的关键细节已初露端倪。

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颠覆性外观：无边框曲面屏设计

苹果长期追求的 " 宛如整块玻璃 " 的无开孔、无边框设计愿景，有望在 iPhone 20 上实现。爆料指出，苹果正研发曲面屏方案，以此营造无边界视觉效果。值得注意的是，三星曾在 Galaxy 系列上应用曲面屏，但随后又弃用该方案。若苹果最终采用，iPhone 或将呈现出无边框的视觉观感。

屏下技术：Face ID 与前置摄像头的抉择

为实现真正的全屏幕设计，苹果或需移除灵动岛和前置摄像头开孔。然而，关于屏下 Face ID 技术能否在 2027 年落地，目前传闻存在分歧。有分析师认为难以实现，但也有爆料称存在可能。若无法将所有组件嵌入屏下，苹果或采取 " 屏下 Face ID + 前置摄像头小孔径开孔 " 的折中方案。

显示与影像：屏幕与传感器全面升级

iPhone 20 预计将搭载更亮、更薄的新型 OLED 屏幕。该机有望采用三星 COE 技术，通过移除偏光片来减薄模组、提升亮度并降低功耗。同时，摄像头将迎来重大升级，可能采用定制 HDR 传感器与可变光圈技术，升级后的机型有望在单帧画面内同时捕捉更丰富的高光与阴影细节。

核心硬件：自研芯片与基带的突破

在核心性能上，iPhone 20 可能搭载第二代 2nm 工艺的 A21 芯片，持续推动性能与能效的边界。更值得关注的是，苹果计划在其 20 周年纪念机型上全面采用自研调制解调器，苹果预计届时自研调制解调器能在速度、AI 功能及能效上全面超越高通产品，此举有望提升设备的续航表现。