证券之星消息，根据天眼查 APP 数据显示兴福电子（688545）新获得一项发明专利授权，专利名为 " 一种 TiN 和 Ti 金属薄膜蚀刻液及其制备方法 "，专利申请号为 CN202211670386.8，授权日为 2025 年 2 月 25 日。

专利摘要：本发明具体涉及一种 TiN 和 Ti 金属薄膜蚀刻液及其制备方法。所述的蚀刻液的组成主要包括氧化剂、稳定剂、铵盐、助氧剂、表面活性剂和醋酸。该蚀刻液利用氧化剂将 TiN 和 Ti 氧化形成氧化物而被蚀刻；铵盐作为缓蚀剂可以与金属离子进行络合；无机酸或有机酸作为次氧化剂，既增加氧化剂的氧化性又提供了足够的氢离子，使氧化剂的浓度维持在较高的水平，维持蚀刻速率稳定，延长蚀刻液的使用 / 储存寿命；表面活性剂可以降低溶液表面张力，促进 TiN 和 Ti 的蚀刻均匀性和完整性。按照本发明的方法使用该蚀刻液能够保证 TiN 金属薄膜和 Ti 金属薄膜的蚀刻速率基本一致（二者蚀刻速率差值≤ 17 Å /min）。

今年以来兴福电子新获得专利授权 6 个。结合公司 2024 年中报财务数据，2024 上半年公司在研发方面投入了 2824.56 万元，同比减 nan%。

数据来源：天眼查 APP

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