IT之家 03-23
ASML 发家史:从“漏雨棚屋”到全球光刻机领域领导者
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IT 之家 3 月 23 日消息,在当今半导体产业中,ASML(Advanced Semiconductor Material Lithography,先进半导体材料光刻)无疑是全球光刻机领域的绝对领导者。台积电、英特尔、三星等芯片制造巨头生产最先进的半导体产品,都高度依赖这家荷兰企业的设备。然而,与许多科技领域的知名企业一样,ASML 的起源也颇为低调。据公司传说,一切始于一个 " 漏雨的棚屋 "。

ASML 最初是由电子巨头飞利浦(Philips)和先进半导体材料国际公司(ASMI)合作成立的,目标是专注于光刻系统这一新兴市场。1984 年,ASML 在荷兰埃因霍温的飞利浦旧园区 Strijp-T 成立,其第一个基地就是那座名副其实的 " 漏雨棚屋 "。这座单层预制建筑与飞利浦 TQ 大楼的一楼相连,而 TQ 大楼是飞利浦 " 工业电子 " 部门的所在地。当时,由于 ASML 的第一套系统 PAS 2000 光刻机的液压油泵噪音极大,团队不得不将油泵放置在小屋外的集装箱中,以维持正常工作环境。

幸运的是,ASML 的业务很快就蓬勃发展起来。1985 年,公司搬进了专门建造的办公和工厂大楼。一年后,改进后的 PAS 2500 光刻机推向市场,并成为未来许多机型的基础。与此同时,ASML 与镜头制造商卡尔・蔡司(Carl Zeiss)建立了合作关系,这一合作一直延续至今。

进入 20 世纪 90 年代,ASML 推出了其 " 突破性平台 "PAS 5500 光刻机。凭借该系统在行业领先的生产力和分辨率,ASML 在阿姆斯特丹和纽约证券交易所成功上市。

2001 年,ASML 推出了具有革命性双工件台技术的首批 Twinscan 光刻机。2010 年,该系列光刻机进一步升级,推出了采用极紫外(EUV)技术的 Twinscan NXE:3100。近年来,ASML 凭借其 EXE 平台和高数值孔径(High NA)技术,再次突破了行业极限。

根据 ASML 最近发布的年度报告,公司去年的收入接近 310 亿美元(IT 之家注:现汇率约合 2248.48 亿元人民币),在全球拥有超过 60 个运营地点,并雇佣了超过 4.4 万名员工。

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