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Intel前CEO基辛格找到新工作:开发FEL EUV极紫外光刻 成本大降2/3
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快科技 4 月 14 日消息,Intel 前任 CEO 帕特 · 基辛格已经找到了新工作!本人亲自宣布,已经加盟 xLight 担任执行董事长。

xLight 是一家半导体行业创业公司,主要业务室面向 EUV 极紫外光刻机,开发基于直线电子加速器的自由电子激光 ( FEL ) 技术光源系统,可显著降低成本。

目前的 ASML EUV 光刻机使用的是激光等离子体 EUV 光源 ( LPP ) ,依赖超高功率的高能激光脉冲,因此整个系统极为庞大、复杂,而产生的 EUV 光源功率有限,这也是其成本、价格高昂的核心原因,单价超过 1.5 亿美元。

因此,美国、中国、日本等都在积极研究替代方案,FEL 自由电子激光器就是广为看好的 EUV 光源,包括振荡器、自放大自发辐射两大技术路线。

它可以产生超过 10kW 功率的 EVU 光源功率,可同时满足 10 台光刻机的需要,而且不会产生锡滴碎片而污染环境。

其实,ASML 早在十年前就考虑过 FEL EUV 光源路线,但最终认为风险偏高,而走向了 LPP EUV 光源。

有关研究显示,10kW 功率的 FEL EUV 光源的建设成本约为 4 亿美元,每年运营成本 4000 万美元。

相比之下,250W 功率的 LPP EUV 光源的建设成本约为 2000 万美元,每年运营成本 1500 万美元。

算下来,EFL 路线的建设成本只有 LPP 路线的 1/2,运营成本更是 1/15,综合成本约为 1/3。

基辛格加盟的 xLight 公司,正在研发基于 ERL ( 能量回收直线加速器 ) 的 FEL EUV 光源系统,可提供 1000W 的功率,四倍于 ASML,从而将单块晶圆光刻成本降低约 50%,而且单个光源系统就能支持 20 台光刻机,寿命也长达 30 年。

xLight FEL EUV 光源系统的另一个好处,就是兼容现有的 ASML EUV 光刻机,可以直接整合,预计 2028 年可接入 ASML 光刻机,并开始生产晶圆。

xLight 公司规模不大,但是团队在光刻和加速器领域拥有丰富经验,包括来自斯坦福直线加速器等的资深研究人士,首席科学家 Gennady Stupakov 博士曾在去年拿到 IEEE 核能和等离子体科学学会粒子加速器科学技术奖。

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