快科技 6 月 4 日消息，美光宣布，已开始出货全球首款基于 1 γ 制程节点的 LPDDR5X 内存样品，旨在提升旗舰智能手机的 AI 性能。

1 γ 制程是第六代 10nm 级别 DRAM 工艺，其特征尺寸约为 11 到 12 纳米，通常在韩国半导体行业被称为 1c DRAM。

美光的 1 γ 节点 LPDDR5X 内存是目前市场上最先进的低功耗 DRAM 产品之一，主要用于移动设备。

美光目前正向部分合作伙伴提供基于 1 γ 节点的 16GB LPDDR5X 内存样品，并计划在 2026 年推出从 8GB 到 32GB 的全系列容量产品，以满足旗舰智能手机的需求。

美光的这款 LPDDR5X 内存具备行业最快的 10.7Gbps 速度，同时功耗降低了最高 20%。

此外，为了支持更轻薄的智能手机设计，美光将 LPDDR5X 内存设计为行业最薄的封装，厚度仅为 0.61 毫米，比竞品薄 6%，比上一代低 14%。

美光还在其新闻稿中指出，1 γ 节点的 LPDDR5X 是其首款采用极紫外光刻（EUV）技术的移动内存解决方案。

与此同时，美光的韩国竞争对手三星和 SK 海力士也在加速开发自己的 1c DRAM，今年 1 月，SK 海力士已完成 1c DDR5 的大规模生产认证；三星则将第六代 10nm 级别 DRAM 的开发目标推迟到 2025 年 6 月。