2023 年末，ASML 向英特尔交付了首台 High-NA EUV 光刻机，型号为 TWINSCAN EXE:5000 的系统。业界普遍认为，High-NA EUV 光刻技术将在先进芯片开发和下一代处理器的生产中发挥关键作用。不过这种情况最近似乎发生了变化，各个晶圆代工厂都在减少对 High-NA EUV 依赖，并且延后引入新技术的时间。特别是最近来自英特尔董事的发言，让市场对 High-NA EUV 的前景产生了更多的疑问。

据 Wccftech报道，近期有投资机构开始下调了 ASML 的目标股价，从每股 795 欧元降至 759 欧元，意味着每股收益将减少大概 5%，原因就是 High-NA EUV 需求放缓，同时也调低了 ASML 在 2026 年和 2027 年的收益预期。不过对 ASML 股票的评级并没有改变，仍坚持 " 买入 " 评价。

按照那位不愿意透露姓名的英特尔董事的说法，新的晶体管设计，比如如 GAAFET 和 CFET，可以降低光刻机在芯片制造过程中的重要性。这些设计是从四面 " 包裹 " 栅极，芯片制造商将更多地关注通过蚀刻来去除多余材料，而不是增加晶圆在光刻机上花费的时间来减小特征尺寸。随着芯片制造中横向方向的重要性日益增加，High-NA EUV 的重要性相比于 EUV 就没那么重要了。

从长远来看，人工智能（AI）浪潮带动了芯片产业的发展，投资机构对 ASML 产品的长期需求仍保持乐观，因为这些芯片普遍采用最新的半导体制造技术，市场对光刻设备的需求仍处于上升趋势。