快科技 8 月 13 日消息，今日晚间国内的半导体设备厂商屹唐股份发布公告，公司已向北京知识产权法院提起诉讼，目前案件已受理，尚未开庭审理

诉讼的主要原因是应用材料公司（AMAT）非法获取并使用了公司的等离子体源及晶圆表面处理相关的核心技术秘密，并在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，构成侵犯商业秘密。

公司要求法院判令被告停止获取和使用其技术秘密，并赔偿经济损失及制止侵权的各项合理支出，合计 9999 万元。

公司表示，本次诉讼系为保护创新者知识产权，维护自身合法权益，不会对公司经营产生重大不利影响，最终影响将取决于法院的判决结果。

屹唐股份公告称，利用高浓度、稳定均匀的等离子体进行晶圆表面处理是公司的关键技术之一，相关技术被广泛应用于公司的干法去胶、干法蚀刻、表面处理及改性等半导体加工设备中。

公司在该领域具备领先的原创性技术能力，并拥有相关技术秘密。

被告应用材料招聘了曾在原告屹唐股份全资子公司 Mattson Technology, Inc.（以下简称 "MTI 公司 "）工作的两名涉案员工。

该两名员工了解屹唐股份关于等离子体的产生和处理方法的核心技术，熟悉和掌握相关设备结构以及技术工艺。

在 MTI 公司任职期间，该两名员工均签署了保密协议，对包括涉案技术秘密在内的技术信息承担严格的保密义务。

证据显示，应用材料招聘该两名员工入职后，向中国国家知识产权局提交了一份发明专利申请，其中主要发明人即为前述两名员工，该专利申请披露了原告与 MTI 公司共同所有的涉案技术秘密。

屹唐股份在公告中表示，被告非法获取和使用原告的技术秘密，并在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，将该专利申请权据为己有，违反了《中华人民共和国反不正当竞争法》的规定，构成侵犯商业秘密的行为，对原告的知识产权和经济利益造成严重的损害。

经查，被告涉嫌实行将使用涉案技术秘密的产品向中国境内客户进行推广销售的行为，进一步造成了对原告商业秘密权益的侵害。

据官网介绍，美国应用材料 AMAT 成立于 1967 年，主要专注于生产用于半导体芯片制造的设备，包括薄膜沉积、刻蚀、曝光显影、化学机械抛光等工艺。

2024 年公司营收超过 250 亿美元，仅次于 ASML 的 300 亿美元，是全球第二大半导体设备供应商。