中微公司上半年交出了一份亮眼的成绩单：营收同比增长 44%，净利润增长 37%，这一增长幅度在当前半导体设备行业景气度分化的背景下显得尤为突出。

周四晚间，中微公司公布上半年业绩报告，核心要点如下：

财务表现

营业收入 49.61 亿元，同比增长 43.88%，增幅显著

净利润 7.06 亿元，同比增长 36.62%，盈利能力持续增强

毛利率 39.85%，较去年同期 41.33% 略有下降，主要受产品结构影响

经营性现金流 2.03 亿元，同比下降 46.87%，主要因营运资金需求增加

研发投入 14.92 亿元，占营收比例高达 30.07%，

核心业务进展

刻蚀设备销售 37.81 亿元，同比增长 40.12%，为主要增长动力

LPCVD 设备销售 1.99 亿元，同比大增 608.19%，显示新产品线快速起量

CCP 刻蚀设备累计装机超 4500 个反应台，较去年同期增长 900+ 个反应台

先进制程工艺验证顺利，5 纳米及以下技术节点产品获得重复订单

刻蚀设备业务收入同比增长 40%，LPCVD 业务迎来爆发

从收入结构看，刻蚀设备依然是绝对主力，37.81 亿元的销售额占总营收 76%，同比增长 40%。

报告期内，公司 CCP 刻蚀设备累计装机超过 4500 个反应台，较 2024 年同期增长超过 900 个反应台，其中双反应台产品累计装机突破 3300 个反应台。

更重要的是，针对 5 纳米及以下逻辑器件制造的高端产品已实现大规模量产，这标志着公司在最前沿制程工艺上的技术实力得到了市场验证。

LPCVD 设备的爆发式增长（同比增长 608%）则反映了公司多产品线布局的成效。作为薄膜沉积设备的重要组成部分，LPCVD 在先进制程中的应用日益广泛，这一业务的快速起量为公司未来增长提供了新的动力引擎。

研发投入的 " 豪赌 " 逻辑

最引人注目的是公司对研发的巨额投入。14.92 亿元的研发费用，占营收比例高达 30%，这一比例远超科创板平均水平的 10-15%。

从绝对数额看，研发投入同比增长 54%，几乎相当于去年全年水平。

这种 " 不计成本 " 的研发投入反映了半导体设备行业的核心特征：技术密集度极高，护城河主要靠持续创新构建。中微目前在研项目涵盖六类设备，包含多个关键制程工艺的核心设备开发，预计总投资规模超过 40 亿元。

值得注意的是，研发投入资本化比重从去年同期的 39.6% 下降至 20.7%。这主要因为本期研发投入较大的新项目尚处研究阶段，表明公司正在为下一代技术进行前瞻性布局。

中微公司正站在一个关键的发展节点上。公司预计未来 5-10 年通过自主研发以及与行业合作伙伴携手，覆盖集成电路关键领域超过 60% 的设备市场，这一目标颇为雄心勃勃。

现金流大幅下滑

虽然净利润实现 36% 的增长，但扣非净利润增速仅 11.5%，两者差距主要来自 1.67 亿元的投资收益和公允价值变动收益。这部分收益主要来自对外股权投资的价值重估，不具备可持续性。

从经营性现金流看，2.03 亿元的净流入同比下降 47%，现金流增速明显滞后于利润增速。这主要因为业务规模扩大导致营运资金需求增加，存货增加 10.4 亿元，应收账款增加 6 亿元。这种现象在半导体设备行业并不罕见，但需要持续关注回款情况。