IT 之家 9 月 3 日消息，SK 海力士今日宣布，已将业界（指存储行业）首款量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV）引进韩国利川 M16 工厂，并举行了设备入厂庆祝仪式。

High NA EUV 拥有比当前 EUV 更高的数值孔径（NA），可大幅提升分辨率，能够绘制当前最微细的电路图案，预计将在缩小线宽和提升集成度方面发挥关键作用。

IT 之家注：数值孔径（Numerical Aperture）是用来衡量透镜汇聚光线能力的数值。NA 值越大，电路图案绘制的精密度越高。电路图案制作越精密，每块晶圆上可生产的芯片数量就越多，同时也能有效提高能效与性能。

据介绍，此次引进的设备为荷兰 ASML 公司推出的 TWINSCAN EXE:5200B，它是首款量产型 High-NA EUV 设备，EUV 光波长 13.5nm，分辨率达 8nm。

与现有的 EUV 设备（NA 0.33）相比，其光学性能（NA 0.55）提升了 40%，这一改进使其能够制作出精密度高达 1.7 倍的电路图案，并将集成度提升 2.9 倍。