快科技 10 月 10 日消息，Intel 昨晚推出了 Panther lake 及 Clearwater Forest 两代产品，都使用了 18A 工艺，这是全美第一个 2nm 级别的先进工艺。

实际上放在全球来说，台积电的 2nm 工艺产品还没有产品发布，Intel 应该算是全球第一个推出 2nm 级工艺的半导体大厂，多年来被台积电、三星领先压得喘不过来气的局面总算缓解一点了。

这两款产品不论性能还是能效，表现还是不错的，Intel 表示相比 Intel 3 工艺，18A 每瓦性能提升 15%，密度提升了 30%。

18A 工艺至少会用在未来三代产品中，Intel 之前的说法是 2030 年之前都会继续打磨 18A 工艺，还会有增强版 18A 工艺。

18A 工艺的芯片正式上市还要等明年 1 月份之后，但是整体下来可以说 18A 工艺已经过了第一道关——从工厂试产走向规模化量产，这背后是良率的提升，产能的爬坡等一系列问题的解决。

早些时候有传闻称 18A 的良率只有 10%，现在来看这已经不攻而破，通常来说稳定生产需要 70% 以上的良率才能谈商业价值，否则成本高到无法接受。

不过 Intel 的 18A 也不是万事大吉了，代工业务不能只靠 Intel 自己的产品使用，还要有大客户采用才行，近期 AMD、OpenAI 及 NVIDIA 对 Intel 代工的态度都很谨慎，双方是有接洽，但下单太早了。

韩国 Sangmyung 大学系统半导体工程教授 Lee Jong-hwan 表示，不断提升良率是 Intel 唯一的出路，他们已经别无选择，只能重塑自己，否则生存会很困难。