快科技 11 月 3 日消息，EUV 工艺是 5nm 节点之后无法绕过的先进工艺，EUV 光刻机只有荷兰 ASML 能产，但日本在 EUV 光刻胶领域很有优势，针对 2nm 及以下节点，日本三大化工巨头都在积极扩产。

日本半导体材料厂东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）日前宣布，将在韩国平泽投资 200 亿日元，约合 1.3 亿美元建设光刻胶工厂，预计 2030 年正式投产。

平泽是三星、SK 海力士等韩国半导体公司的重要生产基地，该工厂投产后应化工业在韩国的产能将翻三四倍，更好地满足客户需求。

此外，应化工业还会在韩国再投资 120 亿日元建设高纯度化学厂，同样会应用先进半导体工艺，此举被外界视为日本厂商积极扩产，提前部署 2nm 及更先进工艺的需求。

同样是 EUV 光刻胶巨头的 JSR 公司也会在韩国投资建设 MOR 型光刻胶工厂，而且明年底就会量产。

另一家百年老店 Adeka 阿德卡也将在日本投资扩产，花费 32 亿日元在日本建设 MOR 型光刻胶工厂，预计 2028 年 4 月份量产。

MOR 型光刻胶以金属氧化物为基础，主要是为 EUV 光刻工艺而研发的，国内也在积极建设 MOR 光刻胶研发及生产线。

不过在半导体材料，尤其是光刻胶方面，日本公司长期占据世界 91% 以上的份额，虽然本土暂时没有 2nm 工艺芯片厂，但他们积极布局海外，对 2nm 及以下的先进工艺一样志在必得。