国家知识产权局信息显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司申请一项名为 " 一种激光刻蚀装置及方法 " 的专利，公开号 CN122142543A，申请日期为 2024 年 12 月。

专利摘要显示，本申请提供一种激光刻蚀装置及方法，涉及激光加工技术领域，装置包括脉冲激光装置和用于承载电池的基台；脉冲激光装置用于朝向电池发出多束激光子束，电池表面具有至少一条电极线预设区域，多束激光子束出射后形成位于同一条电极线预设区域内的多个聚焦光斑，多个聚焦光斑相互间隔；脉冲激光装置用于控制多个聚焦光斑沿同一条电极线预设区域扫描电池，且多个聚焦光斑中的至少两个聚焦光斑的排列方向与多个聚焦光斑的扫描方向呈锐角设置。本申请通过利用满足上述条件的多个聚焦光斑对同一条电极线预设区域进行激光刻蚀时，相邻刻蚀孔之间的间距变大，优化刻蚀宽度，提高了种晶面积，降低串联电阻，提高填充因子，提升光电转化效率。

天眼查资料显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司，成立于 2008 年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本 27356.225 万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉帝尔激光科技股份有限公司共对外投资了 7 家企业，参与招投标项目 49 次，财产线索方面有商标信息 5 条，专利信息 553 条，此外企业还拥有行政许可 49 个。

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作者：情报员