问董秘 06-13
中一科技:投资者质疑高研发浪费,董秘回应产品研发推进中
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投资者提问:

您好!公司每年花费上亿的资金搞研发,为何公司在高端铜箔方面却落后于德福,铜冠?人家已经都在搞 HVLP5 甚至 HVLP5+ 了,而公司还只能产 HVLP3?这种差距公司还有投入高研发浪费资金?

董秘回答 ( 中一科技 SZ301150 ) :

您好,公司目前 HVLP 产品厚度范围 12 μ m-35 μ m,粗糙度范围 0.5 μ m-2.0 μ m,相关产品的研发与下游客户的验证持续推进中。公司将努力创造良好业绩回报广大投资者,请广大投资者理性投资,注意投资风险。感谢您的关注。

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