澳柯玛云联申请半导体器件及其制备方法专利,改善后续的LDD离子注入过程

国家知识产权局信息显示，青岛澳柯玛云联信息技术有限公司申请一项名为 " 半导体器件及其制备方法 " 的专利，公开号 CN122269730A，申请日期为 2024 年 12 月。

专利摘要显示，本发明提供了一种半导体器件及其制备方法，其中半导体器件的制备方法包括以下步骤：提供半导体衬底，且半导体衬底从下至上依次包括基底层、栅极以及牺牲层；依次形成再氧化层以及保护层于半导体衬底上，并去除部分厚度的保护层，以露出牺牲层的上表面以及侧表面上的再氧化层；去除露出的再氧化层以及牺牲层，并形成侧墙于栅极两侧的再氧化层外侧。本发明可以有效改善栅极侧表面以及基底层的 Si 损失问题，以改善后续的 LDD 离子注入过程。

天眼查资料显示，青岛澳柯玛云联信息技术有限公司，成立于 2020 年，位于青岛市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本 50000 万人民币。通过天眼查大数据分析，青岛澳柯玛云联信息技术有限公司共对外投资了 5 家企业，专利信息 158 条，此外企业还拥有行政许可 4 个。