快科技 8 月 1 日消息，半导体工艺进入 5nm 节点之后，EUV 光刻机基本上是没法绕过去的，目前全球只有荷兰 ASML 公司能够生产这种尖端装备，但它背后也离不开德国的核心技术—— EUV 镜头。

不论是 DUV 还是 EUV 光刻，三大核心技术主要是光源、物镜（光学镜头）及工台，ASML 公司实际上也是把这些技术整合到一起，目前的 EUV 光源技术来自他们收购的美国公司 Cymer，物镜则来自卡尔蔡司，工台倒是 ASML 自己联合欧洲多个厂商开发的。

这三个核心部件很难说哪个技术更能卡脖子，但物镜这部分的难度肯定是位居前列的，全球能搞这个的几乎都是光学技术强国，日本能有佳能、尼康两家公司搞出 DUV 光刻机，也是源于上百年的光学技术积累。

ASML 的 EUV 物镜则是来自另一个光学技术强国德国，卡尔蔡司在这方面也有上百年的积累，EUV 光刻机目前正在从第一代的 NA 0.33 时代提升到 NA 0.55 时代，该数值越高，光刻机的分辨率就越高，升级之后能将关键尺寸的精度从 13nm 提升到 8nm（DUV 的关键尺寸精度在 38nm 级别）。

研发生产 EUV 物镜的过程非常复杂，它不是一面镜子，而是多个镜片的组合，整个光学系统有 40000 个零部件组成，重达 12 吨。

制造这些镜头的机器主要在德国，设备重达 150 吨，加工区域是一个 5m*5m*10m 的巨大真空腔，加工时间长达 3 个月，因为平整度要求极为夸张，需要磨平到等效太平洋面积那么大平面偏差仅 1mm 的平整度。

说到这一点，德国这方面的宣传能力显然不如日本了，如果是日本造出了 EUV 镜头，估计要搞个镜头仙人的传奇，夸夸日本手工打磨的镜头平整度。

不过 EUV 镜头的发展极限还没到，未来 NA 能做到 1.0 左右，可以进一步将关键尺寸的光刻精度提升到 6nm，这时候才会逼近极限，相当于正负 24 个原子的厚度。

掌握了这种杀手锏技术，德国最近也开始研究怎么卡别国的脖子了，不过他们最终恐怕没法把这变成出口管制政策，因为这种东西是定向的，给 ASML 配套的，卡也是卡 ASML 脖子，之前就是禁阿森纳协议禁止出口的，也没有向某个东方大国出口过，该国自己的 DUV/EUV 光刻机只可能用自己开发的镜头。

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