快科技 9 月 3 日消息，ASML EUV 光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人 Frank Rohmund 近日接受采访时表示，中国要开发出 EUV 光刻机大约还需要 15 年。

他称这是一个合理的推测，同时也坦言中国在这方面的实际进展难以量化。

ASML 是目前全球唯一能制造 EUV 光刻机的企业，而 EUV 技术是生产英伟达 AI 加速器等最先进芯片不可或缺的关键技术。技术本身越重要，掌握技术的话语权就越大。美国正是利用这一优势，将其转化为对华芯片产业的压制工具。

美国已禁止 ASML 向中国出口 EUV 设备和部分先进的浸润式 DUV 光刻机，美国国会议员也在持续推动出口管制扩展至所有 DUV 光刻机。

对于美国祭出的无理的出口管制措施，Rohmund 明确表示，若未来进一步扩大至传统 DUV 设备，将对产业造成不利影响。他直言：" 我们不相信这些出口管制会带来正面效果，因为这反而会加速中国的创新。"

说白了就是制裁压力反而会逼着中国研发团队拼命追赶，某种意义上是在把对手逼上技术狂奔的路。这一判断与 ASML CEO 富凯此前的表态如出一辙，收紧对华出口管制，将加速中国自主研发替代设备的步伐。

蔡司方面也承认，中国在浸润式 DUV 光刻机领域已取得进展。据外媒 7 月报道，一家总部位于上海的公司已开始制造这类设备。Rohmund 表示，中国已投入相关技术研发数十年，因此中国近期取得进展并不令人意外。

但他同时强调：" 现在我们必须观察这些设备实际上究竟有多大的能力，因为我们目前仍遥遥领先。"

蔡司是全球约 80% 芯片所使用的光学元件的供应商。ASML 于 2017 年以 10 亿欧元收购了蔡司半导体事业的少数股权。

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