快科技 9 月 15 日消息，ASML 是当前唯一能量产 EUV 光刻机的公司，欧美限制国内芯片产业也是靠限制 ASML 供应，但黄仁勋判断中国公司在 2030 年就能搞定先进光刻机。

在日前的 All-In 峰会上判断，NVIDIA CEO 黄仁勋回应了主持人提问的中国什么时候能搞定先进光刻机，黄仁勋判断中国到 2030 年就能做出自己的先进光刻系统。

他还提到一旦技术成熟，中国公司就有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

国外对中国光刻机的进展一直是非常关心的，在这方面各种表态都有，有意思的是前不久蔡司半导体负责人 Frank Rohmund 也回答了类似的问题，表示中国要做出国产 EUV 光刻机可能还需要约 15 年。

相比之下，黄仁勋的判断更乐观，不过这两个回答之间也没有可比性，蔡司回应的是 EUV，黄仁勋说的是先进光刻机，EUV 当然是先进光刻机，但 DUV 依然也是先进光刻机，2030 年也不会落伍，重要性也不会因为 EUV 量产了就降低，两种技术是独立的生态。

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