自在少年阿光 3小时前
韩国人坐不住了!中国存储芯片差距从5年压到1年,长鑫利润率82%反超SK海力士,长存400层NAND踩着韩企节奏迭代
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曾几何时,韩国半导体圈流传着一句话:中国存储芯片的技术代差,至少在五年以上。EUV 光刻机被卡死,先进制程寸步难行,这条路看上去走不通。

直到 2026 年 9 月 15 日,韩国半导体产业协会亲自发布了一份报告。

数字很冷,但每一个都像巴掌:NAND 差 1 年,DRAM 差 2 年,HBM 差 3 年

五年的鸿沟,被压缩到了一到三年。白瑞仁教授的原话是:" 它实际上将两到三年的进展压缩到了一年之内。"

更扎心的是另一组数字。长鑫存储第二季度营业利润率达到82%,同期 SK 海力士是 76%,三星半导体部门是 70%。

一个追赶者,利润率反超了领先者。

这背后到底发生了什么?中国存储双雄手里,究竟捏着什么牌?

一、三条战线,三种追赶速度

先说差距最小的 NAND。

三星和 SK 海力士在 2025 年启动了 300 层 NAND 的量产。长江存储当时在做什么?270 层。

但节奏正在切换。长江存储计划在2026 年推进 400 层 NAND 量产,届时与韩国的量产时间差将压缩到约 1 年

1 年是什么概念?在存储芯片行业,一代产品的生命周期通常就是 1 到 2 年。差距 1 年,意味着长江存储几乎踩着韩企的节奏在迭代。

DRAM 战线,差距稍大。

三星和 SK 海力士 2023 年前后规模量产 DDR5,长鑫存储 2025 年才跟上,代差约 2 年。但长鑫的节奏在加速:LPDDR5X 已大量生产,LPDDR6 也已量产,由小米率先采用

HBM 是硬骨头。长鑫存储刚启动 HBM3E 试产,综合良率约 21% 到 25%。差距约 3 年

但注意一个细节:长鑫做 HBM,走的不是三星和 SK 海力士的老路。

二、绕开 EUV 的那条 " 暗线 "

存储芯片竞争的核心筹码是什么?先进光刻设备。没有 EUV,DRAM 制程很难推进到 1b 节点以下,这是行业公认的物理瓶颈。

长鑫存储和长江存储的做法,用一个词概括:换赛道

长鑫在 G4 DRAM 制程上,采用了长江存储的铜对铜混合键合技术。传统的 DRAM 堆叠靠微凸块连接,走线长、电阻大、功耗高。混合键合直接把两层晶圆的铜互连面对面接合,路径短了,速度上去了,功耗下来了。

说白了,就是把 " 平房 " 拆成 " 两层楼 ",各自独立建造,再精准拼在一起。

更关键的是:这种架构不需要 EUV 光刻机。用成熟的 DUV 设备配合多重曝光,就能制造出有竞争力的产品。

这等于在西方设下的设备封锁线上,硬生生撕开了一道口子。

长鑫还在推进 HKMG(高 K 金属栅极)技术,用氧化铪替代传统硅基绝缘材料,解决制程微缩带来的漏电问题,为向更先进的 1a 节点过渡铺路。

技术封锁的目的是让你跑不快。但如果你换了一条跑道,封锁就成了一道空气墙。

三、财报里的真正信号

如果技术追赶还只是 " 潜力 ",那财报就是实打实的 " 兑现 "。

长鑫科技 2026 年上半年营收1503.1 亿元,同比增长 873.6%;净利润776 亿元,去年同期还是净亏损 23.3 亿。

长江存储母公司长存控股,2026 年一季度营收470.42 亿元,单季净利润333.79 亿元,是 2025 年全年的约2.35 倍

钱从哪里来?市场份额在说话。

Counterpoint Research 数据:长鑫存储第二季度全球 DRAM 营收份额10%,是去年同期 4% 的两倍多,排名第四,仅次于三星、SK 海力士和美光。

长江存储 NAND 出货量份额14%,跃居全球第三,小幅超越铠侠。

有一个容易被忽略的细节:长江存储当前出货量排名全球第三,但营收排名仍是全球第五。为什么?因为它的产品集中在消费级 SSD 和手机闪存,单价低、毛利薄。而铠侠和美光有超过 30% 的出货面向服务器市场,单位售价高得多。

这是下一阶段的战场:从 " 卖得多 " 转向 " 卖得贵 "。

四、韩国人真正焦虑的,不是那 1 年差距

嘉泉大学教授金容硕说了一句话:" 面对同时掌握国内市场和现金实力的中国厂商追赶,韩国半导体业界也必须重整战线。"

注意他的用词:国内市场和现金实力

技术差距是可以追的。设备可以研发,工艺可以迭代。但一个拥有 14 亿人口的统一大市场,加上已经跑通的盈利模型,意味着中国存储厂商有足够的 " 弹药 " 打持久战。

韩国专家的判断是:三星和 SK 海力士把产能集中到 HBM 和服务器内存上,反而在通用 DRAM 市场留下了缺口。中国企业填补了这个缺口,用赚到的现金反哺下一代技术研发,形成了一个正向循环

这不是单点突破,是体系在运转。

当然,冷静的声音也存在。有韩国专家指出,HBM 的关键材料和先进封装能力仍掌握在日本企业手中,生态系统协同经验也不是短期能复制的。良率依然是命门—— HBM3E 的 21% 良率,距离商业竞争所需的 80% 到 90% 还有很长的路。

但趋势已经不可逆。

从 " 落后 5 年 " 到 " 差 1 年 ",中国存储芯片只用了三年。这三年里,没有 EUV,没有捷径,只有一条用混合键合和 DUV 多重曝光铺出来的 " 暗线 "。

当封锁变成催化剂,追赶就变成了另一种形式的突围。

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