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长鑫科技申请半导体器件及其制造方法专利,至少有利于提高半导体器件的可靠性
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国家知识产权局信息显示,长鑫科技集团股份有限公司申请一项名为 " 半导体器件及其制造方法 " 的专利,公开号 CN122825431A,申请日期为 2025 年 3 月。

专利摘要显示,本公开实施例提供一种半导体器件及其制造方法,至少有利于提高半导体器件的可靠性。半导体器件包括:有源部、字线结构、导电屏蔽部、位线结构和电容结构,多个有源部沿第一方向依次间隔设置,沿第一方向上相邻的有源部之间具有第一间隔区或者第二间隔区,有源部包括沿第二方向依次分布的第一掺杂区、沟道区以及第二掺杂区;字线结构沿第三方向延伸且位于沟道区朝向第一间隔区的一侧;导电屏蔽部沿第三方向延伸且位于第二间隔区且与有源部相间隔;位线结构沿第一方向延伸且与多个有源部的第一掺杂区电接触;电容结构沿第二方向延伸且与有源部的第二掺杂区电接触。

天眼查资料显示,长鑫科技集团股份有限公司,成立于 2016 年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本 6019279.7469 万人民币。通过天眼查大数据分析,长鑫科技集团股份有限公司共对外投资了 16 家企业,参与招投标项目 1088 次,财产线索方面有商标信息 287 条,专利信息 718 条,此外企业还拥有行政许可 44 个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为 AI 基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员

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