快科技 10 月 4 日消息，据报道，美国智库科技与治国方略中心（CTS）发布报告称，截至 2026 年初，中国晶圆厂已累计获得约 343 台浸没式深紫外（DUV）光刻系统。

报告估计，这批设备中约270 台为 ASML 的 Twinscan NXT:1980i，另有 28 台更先进的 NXT:2050i 和 NXT:2100i，以及约 45 台较旧机型。

报告指出，资金投入方面，仅 2024 年和 2025 年，中国芯片制造商就分别进口了约 90 台和 89 台 NXT:1980i，两年支出超过 130 亿美元（约合人民币 872 亿元）。

NXT:1980i 虽非最先进机型，但可用于生产7 纳米逻辑芯片和 HBM2e 高带宽内存，后者正是华为昇腾系列 AI 加速器所需的关键部件。

报告作者估算，在配套设备充足的中国晶圆厂，一台 NXT:1980i 每年可能支持生产超过 10 万颗昇腾 910C 等效芯片。

这批设备的理论支撑能力也远超当前需求，足够支撑 7nm 芯片生产数年。

公开资料显示，中国占 ASML 浸没式 DUV 出货量的比例，从 2022 年的 26% 升至 2024 年第一季至 2026 年第一季期间的 60% 至 70%。

不过中国市场占 ASML 系统净销售额的比例近期有所下降，从 2024 年的 41% 降至 2025 年的 33%，2026 年第一季和第二季进一步降至 19% 和 14%。

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