出品：新浪财经上市公司研究院

作者：杳

2025 年，中微公司刻蚀设备销售收入达到 98.32 亿元，较上年增加 25.55 亿元，占公司全年新增收入的 76.97%。虽然刻蚀设备仍然是公司规模扩张的主要来源，但这一比例已低于 2024 年的 91.87%。

与此同时，2024 年首次实现销售的 LPCVD 薄膜沉积设备，2025 年收入达到 5.06 亿元，同比增长 224.23%，贡献了公司当年 10.54% 的收入增量。

这意味着，过去主要由刻蚀设备贡献的收入增长，开始获得新产品的实质性补充。

新业务尚未改变刻蚀设备的主导地位，但其商业化已经体现在财务报表中。

刻蚀设备仍是增长的主要来源

2023 年至 2025 年，中微公司营业收入从 62.64 亿元增至 123.85 亿元，累计增加 61.21 亿元。其中，刻蚀设备收入从 47.03 亿元增长至 98.32 亿元，增加 51.29 亿元。

据此计算，三年间公司约 83.79% 的收入增量来自刻蚀设备。

不过，逐年拆分收入增量后，可以发现业务贡献结构正在变化。

2024 年，公司营业收入同比增加 28.02 亿元，其中刻蚀设备收入增加 25.74 亿元，对全年收入增量的贡献达到 91.87%。

2025 年，公司营业收入增量进一步扩大至 33.19 亿元，但刻蚀设备收入增量为 25.55 亿元，与上一年基本相当，贡献比例下降至 76.97%。

也就是说，2025 年中微公司实现了更大的收入增量，但并非完全依靠刻蚀设备新增销售额扩大。除刻蚀设备外的其他收入增量，从 2024 年的 2.28 亿元扩大至 2025 年的 7.64 亿元。

从存量收入结构看，刻蚀设备的主导地位仍十分突出。

2023 年至 2025 年，刻蚀设备占公司营业收入的比例分别为 75.09%、80.27% 和 79.39%。2025 年略有下降，但仍接近八成。

这组数据反映的不是刻蚀设备的重要性下降，而是公司在保持刻蚀业务较大增长规模的同时，其他业务开始提供更多新增收入。

LPCVD 开始贡献可量化的收入增量

2024 年，中微公司 LPCVD 设备首次实现销售，全年收入约 1.56 亿元。2025 年，这项业务收入增至 5.06 亿元，增加 3.50 亿元。

按照公司 2025 年 33.19 亿元的总收入增量计算，LPCVD 设备贡献了 10.54%。在同期 7.64 亿元的非刻蚀收入增量中，LPCVD 贡献约 45.78%。

从业务占比看，LPCVD 收入占公司营业收入的比例由 2024 年的 1.72% 提高至 2025 年的 4.09%。

其商业化进展并非仅有收入数据支持。

2024 年年报显示，公司 LPCVD 薄膜设备累计出货超过 150 个反应台，并获得约 4.76 亿元批量订单。

2025 年年报进一步披露，公司开发的多款 LPCVD 和 ALD 薄膜设备进入市场，部分产品获得重复性订单，薄膜设备累计出货量突破 300 个反应台。

需要区分的是，2024 年的 150 个反应台针对 LPCVD 设备，而 2025 年的 300 个反应台为更广泛的薄膜设备口径，不能直接计算同口径增长率。

但销售收入、批量订单和重复性订单共同表明，中微公司的部分薄膜沉积设备已经过单纯技术研发和初次客户验证的时期，进入能够持续获得商业订单和确认销售收入的阶段。

刻蚀业务与新产品商业化并行

薄膜沉积设备的收入增长，并不意味着中微公司的主要经营优势已经转向新业务。

2025 年，刻蚀设备收入达到 98.32 亿元，同比增长 35.12%，仍然贡献公司收入增长的绝大部分。

中微公司 2025 年年报披露，其刻蚀设备已应用于从 65 纳米到 3 纳米及更先进工艺的多种刻蚀环节。其中，针对先进逻辑器件和存储器件关键工艺的高端刻蚀设备，新增付运量和销售额有所提高。

在产业环境方面，国际半导体产业协会 SEMI 于 2026 年 4 月公布的数据显示，2025 年全球半导体制造设备销售额为 1351 亿美元，同比增长 15.00%。先进逻辑、存储器和人工智能相关产能投资，是设备市场增长的重要背景。

进入 2026 年，公司的整体业务扩张仍在延续。

2026 年前三季度，中微公司营业收入达到 103.26 亿元，同比增长 28.08%。公司在三季报中披露，先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量继续提升。

截至 2026 年 9 月末，公司已开发出 54 种高端半导体设备，包括 26 种刻蚀设备和 24 种薄膜设备等，累计已有超过 9300 个反应台在国内外生产线实现量产。

上述数据体现了公司的设备产品布局和累计应用规模，但 54 种已开发设备并不等于 54 种产品都已经贡献商业收入，累计反应台数量也不能直接用来计算年度新增销量。

此外，2026 年三季报未披露刻蚀与 LPCVD 设备的单独收入，因此还无法判断 2026 年的收入增量结构是否继续沿着 2025 年的方向变化。

新业务商业化进展尚不能等同于盈利支柱形成

中微公司产品布局扩张的同时，研发投入也明显增加。

2023 年至 2025 年，公司研发投入总额分别为 12.62 亿元、24.52 亿元和 37.44 亿元，占同期营业收入的比例从 20.15% 提高至 30.23%；2026 年前三季度，研发投入占同期营业收入比例升至 31.20%。

2025 年，公司研发投入较 2023 年增加约 24.82 亿元，薄膜沉积、刻蚀及其他新设备研发同步推进。

但公司没有单独披露 LPCVD 设备的完整研发投入、销售成本及盈利贡献。因此，现有公开资料可以证明该产品开始形成一定销售规模，却不能证明其已经形成独立、稳定的利润贡献。

这种区分尤其重要。对于半导体设备企业，设备开发成功、获得订单、确认收入和形成持续盈利，需要经历不同的时期。

目前公司仍处于刻蚀设备主导收入增长的阶段，但其新设备商业化已从研发和订单进展延伸至实际收入贡献，产品布局扩张开始产生可识别的经营成果。