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国产光刻机突破,离“追上ASML”还有多远?
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作者 | 鸿辰

进博会上,上海微电子新一代前道干式光刻机火了!

据天眼查信息,上海微电子股东包含上海电气控股集团有限公司、上海科技创业投资有限公司、上海张江浩成创业投资有限公司等产业与国资背景资本。

国产光刻机是不是快追上荷兰阿斯迈尔了?别激动,先看看数据。

据上海微电子披露,其多台相关设备已进入国内头部逻辑、存储芯片量产线,关键零部件国产化率突破 90%,累计支持产线流片超过 1000 万片,设备有效运行率超过 92%,并且已经定型、进入规模化量产。

看这个数据,难怪让很多人兴奋。

但是,这里有一个容易搞错的问题。这次亮相的,是前道干式光刻机。其中,SSC800 面向 110 纳米及以上工艺,SSB800 面向 280 纳米及以上工艺。

它们解决的是成熟制程需求,而大家熟悉的阿斯迈尔的是 EUV 光刻机,使用的是 13.5 纳米极紫外光,完全不是一个水平线的东西。

所以,如果有人告诉你," 这次中国已经造出了国产 EUV,全面追上阿斯迈尔。" 就不是严谨的科技报道。

这件事为什么仍然值得关注?因为答案比 " 造出 EUV" 更硬核。

过去我们谈国产光刻机,最喜欢问的一个问题就是," 中国能不能造出来?" 其实到了产业化阶段,真正决定一家设备企业生死的是另外几个问题,比如:

能不能稳定生产?能不能交付?能不能连续运行?出了问题能不能维修?下一台能不能继续复制?

回头再看上海微电子的光刻机,90% 以上关键零部件国产化;多台设备进入量产线;累计支持流片超过 1000 万片;设备有效运行率超过 92%。

这意味着,它不是在讨论 " 实验室里能不能点亮 ",而是已经能在真正的芯片工厂里干活。

这两者中间隔着的,是一整条产业链。

光刻机从来不是一个孤零零的机器。它背后是光学、精密运动控制、材料、传感器、自动化、软件、真空系统、精密制造,以及无数供应商共同组成的工业系统。

上海微电子展示的平台里,已经涉及高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、自动物料传输,以及对准调平传感系统。

目前,这些核心环节已经实现全链条自主可控。

所以真正重要的不是 " 中国有没有一台光刻机?" 而是 " 中国有没有能力把光刻机背后的工业体系,一层一层补起来?"

如果答案越来越接近于 " 有能力 ",它带来的影响就远不止一台设备那么简单。

所以,回到开头的问题,上海微电子的这台光刻机最值得关注的地方,恰恰是它证明了,国产光刻装备正在从研发成果走向产业工具,从 " 我能不能造 ",变成 " 我能不能批量造 "。

这才是国产替代真正有价值的关键一步。

所以,别急着说追上阿斯迈尔,也别再用过去的眼光看待国产光刻机。你觉得呢?评论区聊聊吧。

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