金融界 3小时前
长鑫科技申请半导体结构及其制造方法专利,位线层通过位线接触层与多个第一源/漏区电连接
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国家知识产权局信息显示,长鑫科技集团股份有限公司申请一项名为 " 半导体结构及其制造方法、电子设备 " 的专利,公开号 CN122269693A,申请日期为 2026 年 5 月。

专利摘要显示,本公开提供了一种半导体结构及其制造方法、电子设备,其中半导体结构包括:存储阵列,存储阵列包括:多个晶体管组,每一晶体管组包括:垂直方向上间隔布置的多个半导体层;半导体层包括沿第一方向布置的第一源 / 漏区、沟道区以及第二源 / 漏区;第一源 / 漏区在远离沟道区的第一端部具有上表面、下表面和侧表面;多个栅极层,分别覆盖多个半导体层的沟道区;位线接触层,沿垂直方向延伸,位线接触层至少围绕第一端部的上表面、下表面和侧表面;位线层,沿垂直方向延伸并随形覆盖于位线接触层的表面,其中 , 位线层朝向位线接触层的表面具有与位线接触层相适配的形状,位线层通过位线接触层与多个第一源 / 漏区电连接。

天眼查资料显示,长鑫科技集团股份有限公司,成立于 2016 年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本 6019279.7469 万人民币。通过天眼查大数据分析,长鑫科技集团股份有限公司共对外投资了 16 家企业,参与招投标项目 1082 次,财产线索方面有商标信息 287 条,专利信息 693 条,此外企业还拥有行政许可 39 个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为 AI 基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员

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