国家知识产权局信息显示,欣旺达动力科技股份有限公司申请一项名为 " 隔膜及其制备方法和二次电池 " 的专利,公开号 CN122494989A,申请日期为 2026 年 6 月。
专利摘要显示,本申请提供了隔膜及其制备方法和二次电池。本申请的第一方面提出了一种隔膜,隔膜包括聚合物纤维形成的三维网络结构,聚合物纤维包括聚合物基体和分散于聚合物基体的内部和表面的金属卤氧化物。聚合物纤维基体以及分散在聚合物纤维基体的内部和表面的金属卤氧化物颗粒形成 " 纤维‑纳米颗粒 " 复合结构,有效增强了隔膜的热稳定性和离子传输性能。而这种三维网络结构具有分布均匀的小尺度孔隙结构,有利于离子快速迁移,同时抑制电解液的过度渗透,提升隔膜的阻隔性能。此外,金属卤氧化物的引入在隔膜表面构建了丰富的活性位点,包括卤素空位和金属中心,可作为离子迁移通道,降低离子传输能垒,提升电池倍率性能。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员


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